当地时间，2020年8月9日，美国总统拜登签署了一份法案：《芯片和科学方案》，根据该法案，美国半导体产业提供高达527亿美元的政府补贴；再想想此前华为的芯片之争，全网一片哗然；各方大佬纷纷发表感想，该法案对全球芯片产业的影响，我们就不敢发言，实在是不了解这个产业；今天就仅了解一下它的生产设备-光刻机。
先普及一下，避免后面有疑问，先垫一个底：芯片3nm、5nm、7nm指的是采用3nm、5nm、7nm制程的一种芯片，nm是自然就是长度单位纳米的简称。简单的来说的x nm，指的是CPU的上形成的互补氧化物金属半导体场效应晶体管栅极的宽度，也被称为栅长。
光刻机的发展历程
制造芯片的设备-光刻机
比印钞还要赚钱的设备-光刻机
信息技术等发展离不开芯片，而光刻机就是制作芯片必选设备，从原理上分析光刻机，光刻机并不复杂，通俗的就是：投影仪+照相机；在硅片上通过感光原理，制作电子电路；似乎并不高深，但接下来几组信息，就让你绝望了：光刻机目前的精度7nm, 也就是你要将一根头发丝设法劈成几万份的切割工艺，所以普通的雕刻刀是用不上了，只能用光进行雕刻；冷却激光器的水用量，每秒流量能填满六个浴缸；高分辨率上，相当将48万个单词，在一张A4纸上印刷2600遍；3000道加工工序，每道工序的合格率要在99.99%以上，才能生产出合格的芯片；
光刻机的的工作原理
据说光刻机的一个零件，工程师调整需要近十年，尺寸调整近百万次；即使给你图纸，你也不见得能造出来；由于生产太难了，全球每年的产量约在20台；而谁能买到这种设备，谁就能造出更高端的芯片，引领科技时代命脉；
光刻机的机构组成
光刻机部件功能
目前全球光刻机市场主要有ASML、尼康、佳能占据，约占全球90%以上的市场份额，而ASML占比超过62%，出货量达到258台，而且因为该公司的技术能力、产品质量，使得他们的售价最高，市场占有率超过91%。
说到这里似乎我们还是没有一个概念，我们还是用人民币来说说光刻机吧；一台目前最先进的极紫外（EUV）光刻系统，单机售价接近10亿元人民币，它主要用于7nm、5nm芯片生产，而新一代High-NA EUV光刻设备（高数值孔径极紫外），预售价已经超过25亿元人民币，重大200吨；它将用于2nm芯片生产，且不可替代；预计要到2025年才能看到。
光刻机
再举一个例子，华为的麒麟980芯片，采用了7nm工艺，不到10mm的芯片上搭建了近70亿个晶体管，设备还用的台积电购买ASML的极紫外（EUV）光刻系统，目前也只有ASMLK可以批量生产该设备；如果放大观察芯片表面时，会发现俨然是一个排列、整齐的城市。
芯片放大后的表面结构
如上所述，最新的光刻机极紫外（EUV）光刻系统，已经完成了7nm加工能力，下一代High-NA EUV光刻设备将完成2nm挑战；而国内光刻机产业发展与国际还存在极大差距；光刻机的制作是全球顶端行业继承制造，单独依靠一个企业、国家都极其困难；而在美国的要挟、限制下，我们又很难从先进行业中获得光刻机的设备原型，或配件研究；导致我国光刻机产业发展缓慢；
在回到开头的美国政府签署的《芯片和科学方案》，进一步打击、压缩我国的光刻机发展空间；虽然在国家大量政策帮助下，我国的光刻机产业发展也有了不小进步，但差距仍很大，还有很长的路需要走。
